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集成电路用ArF干式光刻胶 - 水分的测试步骤

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T/ICMtia 5.1-2020 集成电路用ArF干式光刻胶

领域
本文件划定了ArF干式光刻胶的要求、试验步骤、检测尺度及包装、运输、存储要求。。。。。。
本文件合用于集成电路用ArF干式光刻胶。。。。。。

术语和界说
ArF: Argon Fluoride 氟化氩
PFA: Perfluoroalkoxy alkane 全氟烷氧基树脂
NMP: N-甲基吡咯烷酮
PGMEA: 丙二醇甲醚醋酸酯

技术要求
性状
无色至淡微黄色通明液体。。。。。。
技术规格及指标
表1.jpg

测试步骤
水分
卡尔·费休库仑法
按 GB/T 6324.8 的划定测定。。。。。。
GB/T 6324.8-2014 有机化工产品试验步骤 第8部门: 液体产品水分测定 卡尔·费休库仑电量法
卡尔·费休容量法
按 GB/T 606 的划定测定。。。。。。
GB/T 606-2003 化学试剂 水分测定通用步骤 卡尔·费休法
测试步骤的选择
当样品中含水量较高时,,,,,,,推荐使用卡尔·费休容量法; ;;;;;;含水量较幼时(1000ppm以下),,,,,,,使用卡尔·费休库仑法能得到更正确的了局。。。。。。


京都电子KEM 卡尔·费休库仑法水分测定仪 MKC-710S

/productshow_1000.html
京都电子KEM 卡尔·费休容量法水分测定仪 MKV-710S

/productshow_997.html


MKC-710+MKV-710.jpg

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